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摘要:
将制备好的单晶氧化镁(MgO)抛光基片分别置于空气、干燥箱和真空环境中,采用光学显微镜、3D表面轮廓仪及X射线光电子能谱仪研究基片表面的吸湿潮解变化.通过研究发现,单晶氧化镁(MgO)抛光基片的吸湿潮解行为会严重破坏晶体结构,影响表面质量.在不同的环境下,吸湿潮解行为对表面的破坏程度是不一样的.
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内容分析
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关键词热度
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文献信息
篇名 单晶MgO抛光基片表面吸湿潮解变化研究
来源期刊 机电产品开发与创新 学科 工学
关键词 单晶MgO 抛光基片 吸湿潮解
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 综合研究
研究方向 页码范围 201-202,168
页数 分类号 TN305.1
字数 1876字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-6673.2011.01.079
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作者信息
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1 李荣珍 9 26 4.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
单晶MgO
抛光基片
吸湿潮解
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
机电产品开发与创新
双月刊
1002-6673
11-3913/TM
大16开
北京市首体南路2号6层632室
82-401
1988
chi
出版文献量(篇)
6855
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12
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