脉冲激光沉积动力学研究进展

• 作者: 何敏华 张端明
• 来源期刊: 物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 脉冲激光烧蚀 等离子体膨胀 薄膜生长
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 评述
• 页码范围: 141-150
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

脉冲激光沉积技术是现代常用的先进薄膜材料制备技术之一.文章在简要介绍脉冲激光沉积技术及其进展的基础上,较全面地介绍了脉冲激光沉积动力学的基本物理图像和动力学构架,深入地探讨了激光烧蚀靶材过程、等离子体膨胀过程和薄膜沉积过程的动力学规律,阐述了我国学者在脉冲激光沉积动力学研究方面的贡献,例如包括脉冲激光沉积三个工艺过程自洽的统一模型,等离子体膨胀的冲击波模型,基于局域能量动量守恒定律的新等离子体演化动力学模型,包括热源项、蒸发项、等离子体屏蔽效应和动态物性参数的烧蚀热传导模型,考虑电子碰撞效应和能带结构变化的修正双温模型,能统一描写从纳秒级到飞秒级脉冲激光烧蚀规律的统一双温模型等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张端明	华中科技大学物理学院	44	322	10.0	16.0