脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟

• 作者: 张端明 张美军 李智华 陈中军
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: PLD技术 KTN薄膜 等离子体
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 页码范围: 92-94
• 页数: 3页
• 分类号: O484|TB321
• 字数: 2289字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2000.05.033

摘要

根据流体力学理论,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了模拟,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律.结果表明,等离子体在膨胀过程中会形成垂直靶表面的等离子体羽辉,当激光束的位置和方向不变时,KTN薄膜的厚度分布不均匀,呈现类高斯分布形状,薄膜的最大厚度与基片和靶材的距离成负二次方关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张端明	华中理工大学物理系	4	27	2.0	4.0
2	陈中军	华中理工大学物理系	1	10	1.0	1.0
3	李智华	华中理工大学物理系	1	10	1.0	1.0
4	张美军	华中理工大学物理系	1	10	1.0	1.0