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标准CMOS工艺载流子注入型三端SiLED的设计与研制
标准CMOS工艺载流子注入型三端SiLED的设计与研制
作者:
张世林
张兴杰
毛陆虹
谢生
谷晓
郭维廉
韩磊
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅基 LED
标准 CMOS
发光器件
正向注入发光
光电集成
摘要:
采用无锡华润上华(CSMC)0.5μm标准CMOS工艺,设计并制备了一种新型的高发光功率载流子注入型三端SiLED器件.该器件在p型衬底上进行n+掺杂,与p衬底形成两个相对的n+p结,其中一个结正向偏置,发出峰值波长在1100nm附近的红外光;另一个结同样正偏,作为注入结对发光进行调制.测试结果显示:第三端注入载流子明显增强了总体的发光功率,在10mA偏置电流、3V调制电压下,可获得1nW的光功率,与单结相比提高了两个数量级.由于工作电压低,该器件可与目前主流的CMOS工艺共电源单芯片集成,在光电集成领域具有一定的应用前景
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正向注入
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单层聚对苯乙炔薄膜器件载流子的注入和传输
PPV薄膜
注入
传输
注入势垒
内容分析
文献信息
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(/年)
文献信息
篇名
标准CMOS工艺载流子注入型三端SiLED的设计与研制
来源期刊
发光学报
学科
工学
关键词
硅基 LED
标准 CMOS
发光器件
正向注入发光
光电集成
年,卷(期)
2012,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
444-448
页数
分类号
TN383
字数
2421字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
毛陆虹
天津大学电子信息工程学院
165
736
12.0
20.0
2
张世林
天津大学电子信息工程学院
109
334
8.0
11.0
3
郭维廉
天津大学电子信息工程学院
145
419
10.0
12.0
4
谢生
天津大学电子信息工程学院
68
232
7.0
11.0
5
韩磊
天津大学电子信息工程学院
10
97
6.0
9.0
6
谷晓
天津工业大学信息与通信工程学院
3
9
2.0
3.0
7
张兴杰
天津大学电子信息工程学院
2
6
1.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
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参考文献
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节点文献
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1998(2)
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参考文献(0)
二级参考文献(3)
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参考文献(2)
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2012(1)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2012(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2015(3)
引证文献(3)
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2017(1)
引证文献(1)
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2019(1)
引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
硅基 LED
标准 CMOS
发光器件
正向注入发光
光电集成
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
发光学报
主办单位:
中国物理学会发光分会
中科院长春光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7032
CN:
22-1116/O4
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路16号
邮发代号:
12-312
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
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