高保真度压印光刻图形质量研究

• 作者: 严乐 卢秉恒
• 来源期刊: 北京信息科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 压印光刻 高保真度 模具 压印工艺 热误差
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 专题机电工程
• 页码范围: 31-34
• 分类号: TH112|TH113.1
• 字数: 2160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-6864.2012.01.007

摘要

为提高纳米压印工艺的图形质量,在抗蚀剂涂铺之前,对硅基材料进行氧离子轰击表面改性,有效增强硅基材料对抗蚀剂的亲和性；采用PDMS软模具,脱模性能好,而且能够很好的清除图型母版和自身表面的杂质；利用高保真度加载工艺,图型横向和纵向复型误差小于14 nm;运用多元回归方法建立了所选温度测点的温度值与模具中心z向热误差之间的关系模型,并对热误差进行了补偿.实验结果表明,压印光刻工艺实现了图型特征的高保真度复制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	387	5973	36.0	56.0
2	严乐	北京信息科技大学机电工程学院	6	6	1.0	1.0