基底温度对直流溅射Nb掺杂TiO2薄膜性能的影响

• 作者: 孙宜华 李晨辉 柯文明 黄帅
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 基底温度 TiO2 直流磁控溅射 陶瓷靶 显微结构 光学特性
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 64-68
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1077.2012.00064

摘要

采用陶瓷靶直流磁控溅射,以玻璃为基底制备2.5wt％ Nb掺杂TiO2薄膜,控制薄膜厚度在300～350 nm,研究了不同基底温度下所制得薄膜的结构、形貌和光学特性.XRD分析表明,基底温度为150℃、250℃和350℃时,薄膜分别为非晶态、锐钛矿(101)和金红石相(110)结构.基底温度250℃时,锐钛矿相薄膜的晶粒尺寸最大,约为32 nm.薄膜表面形貌的SEM分析显示,薄膜粗糙度和致密度随基底温度升高得到改善.薄膜的平均可见光透过率在基底温度为250℃以内约为70％,随基底温度升高至350℃,平均透过率下降为59％,金红石相的存在不利于可见光透过.Nb掺杂TiO2薄膜的光学带宽在3.68～3.78 eV之间变化.基底温度为250℃时,锐钛矿相薄膜的禁带宽度最大,为3.78 eV.