退火温度对Nb掺杂TiO2薄膜结构与性能的影响

• 作者: 林钰 苏雷生 董林 辛荣生
• 来源期刊: 郑州大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 温度 Nb掺杂 TiO2薄膜 结构 光电性能
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 材料工程
• 页码范围: 86-91
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 3933字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13705/j.issn.1671-6833.2018.02.011

摘要

采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了Nb掺杂TiO2透明导电薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见光谱(UV-Vis)及双电测四探针仪对薄膜的结构和性能进行了表征.结果表明:退火温度250℃以上时,得到锐钛矿相Nb掺杂TiO2薄膜,且薄膜结构和光电性能随温度升高而改善;300℃时薄膜可见光透过率最高可达80％,电阻率降至2.5×10-3 Ω·cm;当温度升至350℃时,薄膜晶体开始出现金红石相,光电性能也随之下降.另外,Nb掺杂有利于降低TiO2薄膜晶体的晶相转变温度;掺杂后TiO2薄膜的吸收限发生蓝移现象,并且随着退火温度改变,薄膜吸收限产生蓝移的程度有所不同.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林钰	河南教育学院化学系	34	267	9.0	15.0
2	辛荣生	郑州大学材料科学与工程学院	27	246	9.0	14.0
3	董林	郑州大学材料科学与工程学院	14	40	4.0	6.0
4	苏雷生	郑州大学材料科学与工程学院	4	6	2.0	2.0