产品名称：超高真空磁控溅射镀膜机

• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射靶 超高真空 产品名称 镀膜机 试样制备 化合物薄膜 电子探针 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 92-92
• 页数: 1页
• 分类号: TB43

摘要

特点： 单室结构，真空室尺寸φ300×H250。在真空室内装有一（两）只磁控溅射靶。可完成各种单质、复相、多层以及化合物薄膜的制备。此外本设备为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备。它可以在高纯氯气的保护下进行多种离子处理。