增强型等离子体耦合干法刻蚀条件对PR胶灰化的影响

• 作者: 吴成龙 宋泳珍 李伟 李正勳 李鑫 王亮 王文青 郑云友
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 干法刻蚀 增强型阴极等离子耦合 PR灰化速率
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 器件驱动与控制
• 页码范围: 204-207
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20122702.0204

摘要

通过改变压力、O2和SF6的流量研究干法刻蚀增强型阴极等离子耦合模式下对PR胶灰化速率、均匀性、H/V比值的影响.研究结果表明:在一定范围内随着压力的不断增大,PR的刻蚀速率逐渐增大,同时刻蚀的均匀性也逐渐变好,H/V逐渐变大；增加单组分SF6流量时刻蚀率和H/V比值均先增大后减小,而刻蚀均匀度数值有先减小后增大的趋势；增加单组分O2流量时PR灰化速率变化不明显,但刻蚀的均匀性逐渐变好,H/V比值先增大后减小；当O2和SF6的流量比例不变时,同时增加O2和SF6流量,PR灰化速率会先增加后减小,均匀性数值和H/V比值先减小后增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李伟		9	14	3.0	3.0
2	王亮		3	6	2.0	2.0
3	王文青		1	4	1.0	1.0
4	李鑫		1	4	1.0	1.0
5	吴成龙		1	4	1.0	1.0
6	郑云友		6	25	4.0	4.0
7	宋泳珍		2	7	2.0	2.0
8	李正勳		3	13	2.0	3.0