影响区熔硅单晶电阻率均匀性的主要因素

• 作者: 刘洪
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: FZ单晶 结晶界面 径向分凝
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 封装材料与设备
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.1
• 字数: 1478字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.08.002

摘要

通过对弯曲的结晶界面的研究,分析其对分凝系数、分凝方向及界面杂质分布的影响;通过改变拉晶参数以改变结晶界面的弯曲程度,减小分凝系数的变化及径向分凝的强度。分析影响电阻率均匀性的主要因素,改变其生产工艺。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘洪	中国电子科技集团公司第四十六研究所	6	9	2.0	2.0