质子在固体中的多次散射对PBS法分析Ti、Zr膜中D、T的影响

• 作者: 丁伟 施立群 龙兴贵
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 质子背散射 多次散射 氢同位素
• 年，卷（期）: 2012,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 496-500
• 分类号: TL81
• 语种: 中文

摘要

在对固体中的D、T进行PBS分析实验中,质子的多次散射影响不可忽略.本文采用简单的线性修正方法,通过数据分析获取质子在不同材料中,多次散射计数与道数的拟合线性关系,获得满意的修正结果,总的分析误差可控制在10％以内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙兴贵	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	123	496	10.0	16.0
2	丁伟	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	16	45	5.0	6.0
3	施立群	复旦大学现代物理研究所	21	73	5.0	8.0