Al-N共掺杂制备ZnO薄膜及其性能研究

• 作者: 张伟 李敏君 赵文海 赵祥敏
• 来源期刊: 科技视界
• 关键词: AL-N共掺杂 ZnO薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（32）
• 所属期刊栏目: 项目与课题
• 页码范围: 23,46
• 页数: 2页
• 字数: 1522字
• 语种: 中文

摘要

运用真空射频磁控溅射[1]反应系统(JGPS00D1)进行薄膜沉积,在经过镜面抛光过的Si单晶片衬底上[2],利用掺杂质量2％Al的ZnC∶Al陶瓷靶(纯度为99.99％),采用施主-受主共掺杂的方法,在N2于Ar体积比1∶1的混和气体的气氛下,制备了Al-N共掺杂的ZnO薄膜.探讨了掺杂对薄膜晶体结构、表面形貌及电学性能影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李敏君		28	58	5.0	6.0
2	张伟		26	30	2.0	3.0
3	赵祥敏		19	28	3.0	4.0
4	赵文海		6	4	2.0	2.0