单晶样品材料的生长与纳米量级光刻工艺探索

• 作者: 蒋铠阳
• 来源期刊: 科技创新导报
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶 纳米光刻 微米光刻 电子束直写
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 7-8
• 页数: 2页
• 分类号: TN321.5
• 字数: 2840字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-098X.2012.11.004

摘要

基于电子束直写技术在纳米尺度刻蚀的标准过程,探索适用于单晶样品的刻蚀工艺,在微米尺度上建立一套方案,给出各步骤条件参量,以期进一步应用到单晶样品的纳米尺度光刻。