UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统设计

• 作者: 宁宗娥 王慧勇 魏唯
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 自动传输系统 预备室 反应室 超高真空
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 材料制备工艺与设备
• 页码范围: 9-11,33
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 2357字
• 语种: 中文

摘要

介绍了UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统的具体设计,通过合理选取预备室和反应室的真空泵组,满足了设备的超高真空要求,自动传输系统则保证了反应室高洁净环境、提高外延生产效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏唯	中国电子科技集团公司第四十八研究所	14	17	2.0	3.0
2	王慧勇	中国电子科技集团公司第四十八研究所	7	10	2.0	3.0
3	宁宗娥	中国电子科技集团公司第四十八研究所	3	3	1.0	1.0