有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响

• 作者: 徐少颖 李婧 李田生 谢振宇 闵泰烨 阎长江 陈旭
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 有源层 刻蚀 黑点
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 器件物理及器件制备技术
• 页码范围: 720-725
• 页数: 6页
• 分类号: TN141.9
• 字数: 3568字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20132805.0720

摘要

TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的过孔发黑(黑点)问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源层刻蚀工艺所导致的,并有针对性地进行了试验设计,分别考察了有源层刻蚀条件、附加一步刻蚀方式对黑点不良的解决效果,根据实验效果附加一步刻蚀方式完美地解决了黑点不良问题,从而将产品的良率提升了3％～4％,而电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、迁移率)和正常条件相比没有异常,从而获得了最终完美的解决该不良的方案,提高了产品品质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈旭		11	41	4.0	5.0
2	闵泰烨		10	33	4.0	4.0
3	谢振宇		12	62	5.0	7.0
4	李田生		4	14	3.0	3.0
5	李婧		2	5	1.0	2.0
6	阎长江		3	10	2.0	3.0
7	徐少颖		3	12	3.0	3.0