室温下单电子晶体管3种临界尺寸的确定

• 作者: 邢座程 陈小保 隋兵才
• 来源期刊: 国防科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 单电子晶体管 正统理论 能量量子化 临界尺寸 室温
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 信息与通信工程
• 页码范围: 99-103
• 页数: 5页
• 分类号: TN321
• 字数: 2959字
• 语种: 中文

摘要

为使单电子晶体管达到实际应用的地步,开展室温条件下相关研究成为必然.从正统理论出发,推导、计算出室温条件下单电子晶体管能否正常工作的库仑岛临界尺寸:存储器件为6.5nm,逻辑器件为1.5nm；本文还推导和计算出单电子晶体管室温下发生能量量子化效应的临界尺寸:4.7nm,并对这3种临界尺寸进行了验证和分析.另外,通过比较分析本文还得出了室温条件下,所有逻辑器件均必须考虑能量量子化效应,所有存储器件应尽量考虑能量量子化效应的结论.分析结果表明,库仑岛临界尺寸的确定对单电子晶体管的实际应用具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邢座程	国防科技大学计算机学院	19	107	6.0	10.0
2	隋兵才	国防科技大学计算机学院	7	16	3.0	3.0
3	陈小保	国防科技大学计算机学院	1	1	1.0	1.0