动态掩膜光刻在液晶取向中的应用

• 作者: 胡伟 胡华超 陆延青 魏冰妍
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 物理学
• 关键词: DMD 液晶 光取向 二维码 灰度
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 器件物理及器件制备技术
• 页码范围: 199-203
• 页数: 5页
• 分类号: O43|O753+.2
• 字数: 2721字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20132802.0199

摘要

利用基于数控微镜阵芯片的微投影光刻系统将任意设定的图形投影到SD1取向涂层上,约束SD1分子的排列方向,进而控制液晶的区域取向.该动态掩膜光刻系统可用于液晶取向的任意图形制备和偏振控制,实际分辨率达到了5 μm.基于SD1材料的可擦写特性,实现了不同一/二维码间的光控转换,并实现了任意灰度的分区控制.上述器件均可在外场作用下实现开关或调谐.该动态掩膜光刻技术可方便地实现实时、复杂的液晶图形取向控制,在信息显示与识别及可调光子学器件等方面有着广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡伟	南京大学现代工程与应用科学学院	41	222	9.0	13.0
2	胡华超	南京大学现代工程与应用科学学院	2	5	2.0	2.0
3	陆延青	南京大学现代工程与应用科学学院	16	50	3.0	7.0
4	魏冰妍	南京大学现代工程与应用科学学院	2	3	1.0	1.0