硅基质上图案化金膜的制备

• 作者: 李丽 杨合情 马俊红
• 来源期刊: 实验技术与管理
• 学科: 工学
• 关键词: 图案 金膜 光刻 硅基质
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 实验技术与方法
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: TQ577.3
• 字数: 2555字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一项材料化学综合实验.该实验利用紫外光刻技术在硅基底上制备出图案化的金膜,采用冷热台偏光显微镜对硅片上图形的质量进行检查.通过该实验,不仅可以了解光刻技术的相关基础知识,掌握图案化金膜的常见制备方法和常用表征手段,还能在后续的实验中以图案化Au膜作为模板,设计制备出多种图案化的半导体、聚合物纳米结构.该实验可以在本科生及研究生实验教学中推广.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨合情	陕西师范大学化学与材料科学学院	20	118	6.0	10.0
2	李丽	新疆大学化学化工学院	31	97	5.0	8.0
6	马俊红	新疆大学化学化工学院	15	103	8.0	9.0