坩锅下降法生长Nd3+∶LiYF4单晶及其光谱性能研究

• 作者: 唐磊 夏海平 彭江涛 汪沛渊 胡皓阳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Nd3+∶LiYF4单晶 坩锅下降法 吸收光谱 荧光光谱
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 页码范围: 1729-1734
• 页数: 6页
• 分类号: O782
• 字数: 3086字
• 语种: 中文

摘要

以LiF∶ YF3∶NdF3=51.5∶47.5∶1为原料摩尔比,在50～60℃/cm固液界面温度梯度下,采用密封的坩埚下降法制备了尺寸为φ10 mm×50 mm的高质量Nd3+掺杂LiYF4单晶,并对产物的物相结构和光谱性能进行表征.结果表明,Nd3+在807 nm处的最大吸收系数α=1.96 cm-1,吸收跃迁截面为0.973 × 10-20 cm2.在808 nm LD激发下,测定了样品的荧光光谱和及最强荧光峰1050 nm(4F3/2→4I11/2)的荧光寿命(～451.0μs),并计算得到1050nm的最大受激发射跃迁截面为1.60×10-19 cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏海平	宁波大学光电子功能材料重点实验室	125	460	11.0	12.0
2	彭江涛	宁波大学光电子功能材料重点实验室	3	15	2.0	3.0
3	汪沛渊	宁波大学光电子功能材料重点实验室	3	15	2.0	3.0
4	胡皓阳	宁波大学光电子功能材料重点实验室	4	17	2.0	4.0
5	唐磊	宁波大学光电子功能材料重点实验室	3	15	2.0	3.0