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掺杂与非掺杂ZnO薄膜的对比分析
掺杂与非掺杂ZnO薄膜的对比分析
作者:
赵文海
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AL-N共掺杂
ZnO薄膜
磁控溅射
摘要:
ZnO薄膜具有高电导率、高可见光区透射率等特点,ZnO薄膜在透明导电材料[1](TCO)领域如太阳能电池、半导体激光器(LD)、发光二极管(LED)等光电器件上得到了广泛应用[2]。为制备高质量的ZnO薄膜,我们选择合适的衬底材料和良好的制备技术及工艺。本文采用磁控溅射实验方法[3],在相同溅射条件下制备出了Al-N共掺ZnO薄膜和无掺杂ZnO薄膜,然后对这两种薄膜进行了AFM、XRD、Hal测试对比分析,确定了掺杂与非掺杂ZnO薄膜优缺点,实验结果表明掺杂为Al-N共掺ZnO薄膜的各项性能指标均优于未掺杂ZnO薄膜,为进一步研究ZnO薄膜在实际应用打下一定的基础。
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篇名
掺杂与非掺杂ZnO薄膜的对比分析
来源期刊
电子世界
学科
关键词
AL-N共掺杂
ZnO薄膜
磁控溅射
年,卷(期)
2013,(22)
所属期刊栏目
学术交流
研究方向
页码范围
172-172
页数
1页
分类号
字数
1388字
语种
中文
DOI
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姓名
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1
赵文海
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ZnO薄膜
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子世界
主办单位:
中国电子学会
出版周期:
半月刊
ISSN:
1003-0522
CN:
11-2086/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
2-892
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
36164
总下载数(次)
96
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