集君磁流变平面抛光加工技术

• 作者: 徐西鹏 潘继生 路家斌 阎秋生 陈森凯
• 来源期刊: 机械工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 集群磁流变效应 平面抛光 磨粒半固着 表面粗糙度 硬脆材料
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 制造工艺与装备
• 页码范围: 205-212
• 页数: 8页
• 分类号: TG356
• 字数: 4926字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3901/JME.2014.01.205

摘要

基于磁流变效应和集群原理提出集群磁流变效应平面抛光技术,对磁极排布方式、端面形状及其尺寸的磁场特性进行静磁场有限元分析优化,结果表明,选取圆柱平底磁极进行同向规律排布时容易形成由多个独立“微磨头”组成的柔性抛光膜,能实现加工表面与“微磨头”的实际接触面积最大化.通过设置“微磨头”尺寸及数量与工件的接触状态,对K9玻璃、单晶硅和单晶6H-SiC三种硬脆材料基片加工出弧形抛光带,试验验证集群磁流变效应抛光膜的集群特性.对加工表面与抛光盘表面之间的间隙、加工时间、磁感应强度和转速等集群磁流变平面抛光工艺参数进行试验优化,并采取优化工艺对三种硬脆材料进行30 min抛光,K9玻璃表面粗糙度从Ra0.34 μm下降到Ra 1.4 nm,单晶硅从Ra57.2 nm下降到Ra4 nm,单晶SiC从Ra 72.89 nm下降到Ra1.92 nm,均能获得纳米级粗糙度表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐西鹏	华侨大学脆性材料加工技术教育部工程研究中心	186	1660	20.0	28.0
2	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
3	潘继生	广东工业大学机电工程学院	34	203	8.0	12.0
4	路家斌	广东工业大学机电工程学院	58	257	9.0	12.0
5	陈森凯	广东工业大学机电工程学院	1	6	1.0	1.0