刻蚀腔室内衬用抗等离子体腐蚀涂层的研究现状

• 作者: 刘金虎 夏洋 张庆钊 张有茶 王文东 王聪瑜 贾永昌
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 等离子体刻蚀 腔室内衬 悬浮液等离子喷涂 在线监测
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 19-23
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.jssn.1674-7127.2014.03.004

摘要

干法刻蚀(等离子体刻蚀)技术产生的等离子体会对半导体制造工艺以及微电子IC制造工艺中的刻蚀腔室内衬产生腐蚀.本文综述了国内外腔室防等离子体腐蚀用材料的发展历程与现状,从耐等离子体刻蚀材料、悬浮液等离子喷涂技术和在线监测技术领域的发展展望了抗等离子体刻蚀涂层的未来发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏洋	中科院微电子研究所	3	9	2.0	3.0
2	贾永昌		11	30	3.0	4.0
3	张有茶		9	13	3.0	3.0
7	张庆钊	中科院微电子研究所	1	3	1.0	1.0
8	王文东	中科院微电子研究所	2	4	1.0	2.0
9	刘金虎	中科院微电子研究所	1	3	1.0	1.0
10	王聪瑜		3	13	2.0	3.0