一种深腔内图形制作的光刻方法

• 作者: 何凯旋 王文婧 王鹏 陈璞
• 来源期刊: 集成电路通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 深腔光刻 曝光量 曝光间隙 半球陀螺
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 页码范围: 12-16
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7

摘要

针对半球陀螺在研制流片时遇到的深腔内光刻难题，在现有条件下开展了深腔内光刻工艺实验。实验中将曝光间隙类比深腔深度，利用现有条件开展一系列实验。最终得出：在400～600μm曝光间隙内，采用现有光刻机进行深腔光刻工艺制作时，掩膜图形转移尺寸与曝光量有关，与曝光间隙没有明显关系。实验得出的工艺参数已经应用到半球陀螺项目的制作。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王文婧	北方通用电子集团有限公司微电子部	9	0	0.0	0.0
2	王鹏	北方通用电子集团有限公司微电子部	6	0	0.0	0.0
3	陈璞	北方通用电子集团有限公司微电子部	7	0	0.0	0.0
4	何凯旋	北方通用电子集团有限公司微电子部	4	0	0.0	0.0