TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用

• 作者: 刘诗斌 梁晋涛 陈东
• 来源期刊: 广西师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 四甲基氢氧化铵 硅湿法刻蚀 过硫酸铵 异丙醇
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 55-59
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 3194字
• 语种: 中文

摘要

四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂.在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度.本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响.研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘诗斌	西北工业大学电子信息学院	84	743	15.0	22.0
2	陈东	西北工业大学电子信息学院	11	116	5.0	10.0
4	梁晋涛	桂林电子科技大学环境与生命科学学院	13	50	4.0	6.0