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摘要:
周边Mura在TN型TFT-LCD(Thin iflm transistor-liquid crystal display)生产中较为常见的一种不良,对画面品质影响较大,文章结合实际生产情况对周边Mura发生的原因进行理论分析和实验验证,周边Mura为光学性不良,通过调整Rubbing强度或者是增加Rubbing Cloth的恢复力等手法验证改善。最终实验得出在实际生产过程中调整Rubbing Cloth厚度和Aging时间,不良率降低80%以上,提高了产品品质。
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文献信息
篇名 关于TN型TFT-LCD中周边Mura的分析与改善
来源期刊 电子世界 学科
关键词 TFT-LCD Muar Rubbing Cloth
年,卷(期) 2014,(18) 所属期刊栏目 科研发展
研究方向 页码范围 160-160
页数 1页 分类号
字数 304字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭红光 2 8 2.0 2.0
2 刘俊豪 7 22 3.0 3.0
3 高荣荣 4 7 2.0 2.0
4 叶超前 3 12 2.0 3.0
5 姚成宜 1 4 1.0 1.0
6 马程 1 4 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (0)
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参考文献  (0)
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2014(0)
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研究主题发展历程
节点文献
TFT-LCD
Muar
Rubbing Cloth
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子世界
半月刊
1003-0522
11-2086/TN
大16开
北京市
2-892
1979
chi
出版文献量(篇)
36164
总下载数(次)
96
总被引数(次)
46655
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