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摘要:
利用室温光致荧光谱(PL)研究金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法中温度参数对InP 衬底上生长In0.53Ga0.47As/InP 量子阱材料质量的影响.通过两组实验分别研究并分析了生长温度对In0.53Ga0.47As 层和InP 层材料质量的影响,得到了In0.53Ga0.47As 层和InP 层最佳生长温度分别为650℃和600℃.利用优化条件制备In0.53Ga0.47As/InP基PIN 型探测器,得到器件的暗电流较优化前小2 个数量级.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 InGaAs/InP基探测器材料的外延生长优化
来源期刊 应用物理前沿:中英文版 学科 其他
关键词 INP/INGAAS 量子阱 红外探测器 PL谱
年,卷(期) 2015,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 11-15
页数 5页 分类号 O
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邓军 北京工业大学电子信息与控制工程控学院、光电子技术省部共建教育部重点实验室 57 219 7.0 10.0
2 杜玉杰 北京工业大学电子信息与控制工程控学院、光电子技术省部共建教育部重点实验室 4 1 1.0 1.0
3 夏伟 北京工业大学电子信息与控制工程控学院、光电子技术省部共建教育部重点实验室 3 0 0.0 0.0
4 何林杰 北京工业大学电子信息与控制工程控学院、光电子技术省部共建教育部重点实验室 2 0 0.0 0.0
5 田迎 北京工业大学电子信息与控制工程控学院、光电子技术省部共建教育部重点实验室 1 0 0.0 0.0
6 牛晓晨 北京工业大学电子信息与控制工程控学院、光电子技术省部共建教育部重点实验室 1 0 0.0 0.0
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2327-4131
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