极紫外波段平面变栅距全息光栅的优化设计

• 作者: 吴娜 姜岩秀 巴音贺希格 李文昊 杨硕 赵旭龙
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光栅 变栅距全息光栅 刻线密度 改进的局部结合优化算法 分辨率
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 衍射与光栅
• 页码范围: 37-47
• 页数: 11页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201535.0105002

摘要

为制作应用于极紫外波段(50～150 nm)的变栅距全息光栅,提出了一种新的应用于球面波曝光系统的优化算法,即改进的局部优化算法.根据仪器使用要求构建了期望刻线密度函数,并以此建立优化目标函数,其特点是使四个目标函数转化为多变量、带约束的一个目标函数,变为非线性优化问题.使用改进的局部算法时,由于对目标函数进行了加权,赋予了初值多样性,限定了记录参数取值,给出了刻线密度系数的约束条件,从而改变了各项系数对目标函数值的贡献,有效地降低了刻线密度函数系数的误差,提高了刻线函数符合程度及光栅分辨率.与常规局部优化算法相比较,使用改进的局部优化算法可使刻线密度函数与期望刻线密度函数绝对误差在0～0.02 line/mm范围内,提高一个数量级,分辨能力可由4000提高至17000以上.结果表明,只要优化方法选择得当,使用简单的球面波曝光系统可以制作高分辨率的变栅距全息光栅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	李文昊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	35	144	7.0	11.0
3	杨硕	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	12	42	5.0	6.0
4	吴娜	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	91	6.0	9.0
5	姜岩秀	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	19	3.0	4.0
6	赵旭龙	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	9	27	2.0	5.0