高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用

• 作者: 况龙钰 刘慎业 施百龄 曹磊峰 朱效立 董连和 谢常青
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光刻 单级衍射光栅 光谱优化 掩模校正 曝光间隙控制
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 246-250
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2015.04.008

摘要

为了满足单级衍射光栅的应用需求,在器件研制中对X射线光刻的关键技术进行优化,克服了曝光中图形畸变的问题,并利用同步辐射光源对单级衍射光栅进行了高效率的批量复制.通过对X射线光谱成分进行模拟,在X射线束线中插入铬反射镜和氮化硅滤片,得到了能量范围为0.5～2 keY的大面积均匀光斑;根据具体情况对掩模图形进行+5～+35 nm的校正,克服了X射线曝光图形扩展的问题;通过控制掩模与基片软接触产生的莫尔条纹,使曝光间隙降到3 μm以下,保证了稳定的曝光结果与高分辨率;所制备的多种单级衍射光栅图形结构复杂,具有纳米尺度特征线宽,剖面陡直,满足单级衍射光栅设计对纳米加工技术的苛刻要求.