为研究 Ar 浓度对金刚石膜的质量的影响,采用微波等离子体化学气相沉积法,以 Ar/H2/CH4为气源,通过改变反应气源中的 Ar 流量,在 P 型 Si(100)基片上分别沉积了不同晶粒尺寸的金刚石膜(微米、纳米以及超纳米)。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X 射线衍射仪、往复式摩擦磨损试验机等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸、薄膜质量、残余应力以及微观硬度等特性进行了分析。结果表明:随着 Ar 流量的增加,金刚石膜晶粒尺寸减小;由 G 峰漂移引起的拉应力先减小后增大;薄膜中非金刚石含量增加,硬度下降。