Nd和Mg共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究?

• 作者: 晋玉星 杨桦 胡增顺
• 来源期刊: 合成材料老化与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 共掺杂 BNTM 化学溶液沉积法
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TB34
• 字数: 2215字
• 语种: 中文

摘要

利用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si (100)基底和700℃条件下分别制备了Nd和Mg (不同浓度)共掺杂的钛酸铋薄膜Bi3．15Nd0．85Ti(3-x)Mg2xO12(BNTM)(x=0．00,0．06,0．10和0．14),并进行了这一系列薄膜的包括微结构、介电、铁电和漏电流等特性的研究和对比。发现当Mg含量为x=0．10时,薄膜具有较高的剩余极化强度(2Pr=33．40μC/cm2)和介电常数(ε=538,频率为1kHz),其漏电流密度为10-8A/cm2。讨论了相关的物理机制。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	晋玉星	开封大学公共计算机教研部	17	53	4.0	6.0
2	胡增顺	开封大学公共计算机教研部	12	5	1.0	2.0
6	杨桦	开封大学信息工程学院	17	44	4.0	5.0