用于宽光谱减反射膜的热压印图形转移的研究

• 作者: 孙强 张启明 肖志斌 薛超 高鹏
• 来源期刊: 电源技术
• 学科: 工学
• 关键词: 图形转移 热压印 宽光谱 减反射膜
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 1424-1427
• 页数: 4页
• 分类号: TM914
• 字数: 2229字
• 语种: 中文

摘要

提出在AllnP窗口层上,利用纳米热压印技术加工微圆锥阵列结构实现宽光谱减反射膜的方法.通过设计仿真,AllnP微圆锥阵列结构,可实现400～1 700 nm光谱范围内平均反射率2.5％.纳米热压印技术利用制作的模板,在温度达到PMMA聚合物玻璃转化温度之上后施加一定的压力将模板压印到PMMA聚合物表面,使得纳米级模板结构转移到样品上.采用Obduct纳米压印机,研究图形转移的优化参数,制备出了具有高分辨率的热压印图形,为实现AllnP微圆锥阵列结构打下了良好的基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙强	中国电子科技集团公司第十八研究所	32	139	7.0	10.0
2	高鹏	中国电子科技集团公司第十八研究所	14	32	4.0	5.0
3	薛超	中国电子科技集团公司第十八研究所	8	17	3.0	4.0
4	张启明	中国电子科技集团公司第十八研究所	4	5	1.0	2.0
5	肖志斌	中国电子科技集团公司第十八研究所	12	57	5.0	7.0