基于梯度聚类离散思想的磁流变抛光自适应轨迹

• 作者: 吉方 张云飞 贾阳 黄文
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 迭代误差 梯度 聚类离散 自适应轨迹
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 60-64
• 页数: 5页
• 分类号: TH162.1
• 字数: 2691字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201527.121008

摘要

针对磁流变抛光过程中抛光轨迹会引入迭代误差的问题,设计了步长和行距随光学表面梯度自适应变化的光栅线抛光轨迹.首先根据光学元件的表面误差分布,利用标准五点法获得面形各点的梯度值,再基于聚类离散思想将所有面形点根据梯度值大小进行了归类,从而得到轨迹步长和行距随面形误差变化的自适应轨迹.在自研的磁流变加工机床上进行了实验研究,将一块直径50 mm的微晶玻璃,从峰谷值为65 nm、均方根值为12 nm收敛到峰谷值为21 nm、均方根值为2.5 nm,并且在加工后的表面功率谱密度曲线上没有出现明显的尖峰误差.实验结果表明,这种自适应轨迹能有效抑制中高频误差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云飞	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	21	59	5.0	6.0
2	吉方	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	83	322	9.0	12.0
3	黄文	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	49	206	7.0	12.0
4	贾阳	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	2	3	1.0	1.0