种晶表面粗糙度及边部形态对MPCVD法生长单晶金刚石的影响

• 作者: 刘剑红 吴改 孟国强 廖佳 陈美华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 单晶金刚石 种晶 表面粗糙度 边部形态
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 页码范围: 316-322,328
• 页数: 8页
• 分类号: O782
• 字数: 3527字
• 语种: 中文

摘要

针对种晶的表面粗糙度和边部形态对MPCVD法生长金刚石单晶的影响进行了研究.结果表明,当样品表面粗糙度Ra值达到0.0066 μm时,单晶金刚石沉积层已经可以呈现出较高的结晶质量.当表面粗糙度Ra值达到0.0162μm后,种晶的中心区域受到的影响较小,但种晶边缘区域的沉积却受到了较明显的影响.研究边部形态的实验中,在同一种晶的不同区域抛磨出45°边棱和90°边棱,生长后分别对这两个区域进行了拉曼光谱测试,测试结果表明,90°边棱处1332 cm-1金刚石本征峰的半高宽较小,沉积层质量较好,初步推测90°是更适合的种晶边棱角度.