基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量

• 作者: 于杰 刘钰 周烽 喻波 王丽萍 王辉 谢耀
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 光刻技术 有限元分析 高复现性支撑装置 薄膜均匀性测量
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 测量与计量
• 页码范围: 259-264
• 页数: 6页
• 分类号: TH122
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201542.0708010

摘要

为了测量光学元件多层膜膜厚均匀性指标,基于面形检测对多层膜均匀性测量方法进行了研究.分析了均匀性的测量过程以及影响因素,评估了元件面形检测复现性对测量结果的影响,建立了多层膜结构的有限元模型,计算分析膜层内应力对基底面形带来的影响.基于高复现性面形检测装置进行了测量方法的实验验证工作,实验结果表明:元件面形测量口径范围内膜厚分布均匀性优于0.1nm[均方根(RMS)值];将测试结果转化为沿径向的轮廓分布结果,与基于反射率计的膜厚检测数据进行了对比,表明两种方法测试数据基本吻合,验证了基于面形检测方法评估光学元件多层膜均匀性的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	215	3061	28.0	49.0
2	刘钰	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	16	211	8.0	14.0
3	王丽萍	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	31	296	8.0	17.0
4	周烽	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	23	137	7.0	10.0
5	谢耀	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	14	3.0	3.0
6	于杰	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	10	15	3.0	3.0
7	喻波	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	10	13	2.0	3.0