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摘要:
采用ZnO:Ga3 O2高密度陶瓷靶作为溅射源材料,利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了镓锌氧化物( GaZnO)半导体薄膜.基于X射线衍射仪的测试表征,研究了薄膜厚度对GaZnO样品晶粒生长特性和微结构性能的影响.研究结果表明:所制备的GaZnO样品为多晶薄膜,并且都具有六角纤锌矿型结构和(002)晶向的择优取向生长特性;其(002)取向程度、结晶性能和微结构参数等均与薄膜厚度密切相关.随着薄膜厚度的增大,GaZnO样品的(002)择优取向程度和晶粒尺寸表现为先增大后减小,而位错密度和晶格应变则表现为先减小后增大.当薄膜厚度为510 nm时,GaZnO样品具有最大的(002)晶向织构系数(2.959)、最大的晶粒尺寸(97.8 nm)、最小的位错密度(1.044×1014 m-2)和最小的晶格应变(5.887×10-4).
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篇名 镓锌氧化物半导体薄膜的晶粒生长特性及其微结构研究
来源期刊 中南民族大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 磁控溅射 氧化锌薄膜 晶粒生长 微结构
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目 物理与电子信息科学
研究方向 页码范围 75-80
页数 6页 分类号 TM914
字数 3187字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 钟志有 中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室 67 360 11.0 14.0
2 龙路 中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室 11 55 4.0 7.0
3 陆轴 中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室 19 78 6.0 8.0
4 康淮 中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室 11 61 6.0 7.0
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中南民族大学学报(自然科学版)
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1982
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