低辐射膜系中(Al,Ti)N薄膜的研究

• 作者: 仝玉莲 时方晓
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 工学
• 关键词: 建筑 低辐射镀膜玻璃 直流反应溅射 (Al,Ti)N薄膜
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 298-303
• 页数: 6页
• 分类号: TU53|TB34
• 字数: 4321字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14186/j.cnki.1671-6620.2016.04.011

摘要

以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的.通过直流磁控反应溅射技术在玻璃(或单晶硅)表面制备(Al,Ti)N薄膜作为低辐射镀膜玻璃的内层介质层,在此基础上进行单因素变量分析铝靶功率、钛靶功率、氮气流量和溅射时间对薄膜可见光透过率、表面粗糙度的影响以及测定最优条件下薄膜的结晶状态、表面形貌和元素含量.结果表明,当铝靶功率为100W、钛靶功率为80 W、氮气流量为2.5 ml/min、溅射时间为90 min时可见光范围内透过率均在96％以上,表面粗糙度11.3 nm,膜基结合力强,膜质优异适宜低辐射镀膜玻璃功能膜的附着.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	时方晓	沈阳建筑大学材料科学与工程学院	8	11	2.0	3.0
2	仝玉莲	沈阳建筑大学材料科学与工程学院	3	1	1.0	1.0