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平行束磁透镜的研究
平行束磁透镜的研究
作者:
孙雪平
彭立波
胡振东
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁透镜
平行束
离子注入
摘要:
离子注入机单纯的静电扫描造成注入角度的不一,已经不能满足器件性能的一致性要求,所以产生平行的离子束就很重要,为此介绍一种均匀磁场下的平行束磁透镜,可以产生近似平行的离子束;获得离子束的平行度小于0.43°,满足大规模集成电路制造生产线的使用要求.
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文献信息
篇名
平行束磁透镜的研究
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
磁透镜
平行束
离子注入
年,卷(期)
2016,(7)
所属期刊栏目
电子专用设备研究
研究方向
页码范围
37-39
页数
3页
分类号
TN305
字数
1490字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
彭立波
中国电子科技集团公司第四十八研究所
7
5
2.0
2.0
2
孙雪平
中国电子科技集团公司第四十八研究所
3
3
1.0
1.0
3
胡振东
中国电子科技集团公司第四十八研究所
2
0
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传播情况
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(/年)
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引文网络
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1997(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2016(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
磁透镜
平行束
离子注入
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
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