掺硼质量浓度对BDD电极电化学特性的影响

• 作者: 李海清 檀柏梅 高宝红
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 化学
• 关键词: 掺硼金刚石电极 电势窗口 析氧电位 掺硼质量浓度 热丝化学气相沉积(HFCVD)
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 838-841
• 分类号: TB43|O646.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2016.12.010

摘要

掺硼金刚石(BDD)薄膜电极析氧电位高、背景电流小、耐腐蚀的特性,使其在电化学应用方面受到广泛关注.采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在钽基底上制备了不同掺硼质量浓度的金刚石薄膜电极,通过扫描电子显微镜(SEM)分析了薄膜表面形貌,利用循环伏安法研究了电极的电化学特性.结果表明:掺硼质量浓度为2 g/L时,制备的薄膜电极质量最好,晶粒尺寸最大,电势窗口达到3.99 V;继续增大掺硼质量浓度,粒径减小,薄膜质量变差,电势窗口逐渐减小.BDD电极在酸、盐、碱性溶液中的析氧电位分别为2.11,1.82和0.86 V,呈递减趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	檀柏梅	河北工业大学电子信息工程学院	85	534	13.0	18.0
3	高宝红	河北工业大学电子信息工程学院	29	61	4.0	5.0
9	李海清	河北工业大学电子信息工程学院	2	3	1.0	1.0