方波脉冲下聚酰亚胺/纳米复合薄膜耐电晕特性研究

• 作者: 吴广宁 吴旭辉 张兴涛 钟鑫 高国强 魏文赋
• 来源期刊: 电力电容器与无功补偿
• 关键词: 聚酰亚胺 纳米复合薄膜 红外光谱分析 扫描电镜 耐电晕
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 介质研究与改进
• 页码范围: 83-88
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.14044/j.1674-1757.pcrpc.2016.05.017

摘要

本文为探究在方波脉冲下聚酰亚胺（polyimide，PI）/纳米复合薄膜的耐电晕特性，采用原位聚合法制备了纯膜和掺杂纳米氧化铝的复合薄膜，通过傅里叶红外光谱（FTIR）技术分析了薄膜的化学结构，测量了纯膜和纳米膜的表面电阻率，并在重复方波脉冲下进行耐电晕实验，最后运用扫描电子显微镜（SEM）分析电晕击穿前后薄膜的微观形态。实验结果表明：纯膜和纳米膜的耐电晕时间都会随着电压的升高而降低，并且在同一电压下，纳米膜的耐电晕特性优于纯膜。通过测试分析，从纳米粒子和聚合物基体间形成的界面、薄膜表面电荷分布、薄膜试样击穿过程3个方面对纳米薄膜优异的耐电晕特性给出了解释。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴广宁	西南交通大学电气工程学院	458	6939	39.0	56.0
2	高国强	西南交通大学电气工程学院	98	908	19.0	27.0
3	张兴涛	西南交通大学电气工程学院	11	13	2.0	3.0
4	钟鑫	西南交通大学电气工程学院	15	32	3.0	5.0
5	吴旭辉	西南交通大学电气工程学院	12	13	2.0	3.0
6	魏文赋	西南交通大学电气工程学院	27	67	3.0	8.0