正反欧姆区间伏安特性对镀层均匀性及膜/基结合强度的影响

• 作者: 冯林 张彤晖 杨超 蒋百灵 郝娟
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射离子镀 伏安特性 反欧姆区 离化率
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 2458-2461
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

将靶材与真空腔之间的伏安特性引入正-反欧姆过渡区间,采用脉冲控制模式研究不同靶电流密度对镀层均匀性和膜/基结合强度的影响规律.实验发现,当靶面放电区电流密度(Id)由0.083 A/cm2增加至0.175 A/cm2时,靶电压随靶电流密度的增大呈线性增大关系,与之对应的镀层厚度差由7.984 μm增大至14.011 μm;但当Id由0.175 A/cm2增大至0.25 A/cm2时,靶电压随靶电流密度的增大呈线性减小关系,与之对应的镀层厚度差则由14.011 μm减小至10.077μm;而薄膜厚度减小率由97.38％ (Id=0.083 A/cm2)降低为89.491％ (Id=0.25 A/cm2);另外,在反欧姆区,膜/基结合强度随Id的增大而快速增大.以上结果表明:反欧姆环境下有利于改善镀层的均匀性和提高膜/基结合强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵		241	5240	40.0	64.0
2	杨超		31	144	7.0	10.0
3	郝娟		7	6	1.0	2.0
4	冯林		3	0	0.0	0.0
5	张彤晖		3	1	1.0	1.0