多弧离子镀TiAlN薄膜的制备及其抗氧化性能

• 作者: 梁启超 王天国
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 TiAlN薄膜 氮氩流量比 M2高速钢 组织结构 抗氧化性能
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

目前,关于氮氩比对TiAlN薄膜高温抗氧化性能影响的研究较少.采用多弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,利用SEM、XRD等方法研究氮氩流量比对薄膜组织结构、表面形貌和抗氧化性的影响.结果表明:TiAlN薄膜呈δ-TiN面心立方晶体结构;随着氮氩流量比的提高,薄膜表面熔滴数量显著下降,膜层表面更加平整光滑,相结构的择优取向发生改变,硬度先增大后趋于稳定,表面氧化物含量逐渐下降;当氮氩流量比为9:1时,所得TiAlN薄膜在800℃氧化温度下,其表面会生成一层致密的Al2O3保护膜,有效阻止了薄膜被进一步氧化,具有良好的抗氧化性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王天国	湖北汽车工业学院材料科学与工程学院	27	77	4.0	8.0
2	梁启超	湖北汽车工业学院材料科学与工程学院	7	45	3.0	6.0