以新型硼源制备硼掺杂金刚石膜的性能研究

• 作者: 张利波 彭金辉 杨黎 江彩义 王梁 胡途 郭胜惠 高冀芸
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 硼掺杂 金刚石膜 电化学性能
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 页码范围: 7-12
• 页数: 6页
• 分类号: TQ164
• 字数: 4104字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0002

摘要

采用微波等离子体化学气相沉积技术,以氧化硼-乙醇溶液作为硼源,制备不同掺硼浓度的金刚石膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、激光拉曼光谱仪、电化学工作站等研究其表面形貌、晶体结构、薄膜质量和电化学性能.结果表明:随硼元素含量升高,金刚石膜的晶体颗粒尺寸先减小后增大,电势窗口由3.1V降至2.6 V,阳极电流密度由0.022 7 mA·cm-2降至0.011 9 mA· cm-2,但对背景电流及电化学可逆性几乎不影响.