低折射率疏水SiO2薄膜的制备和表征

• 作者: 姜洪义 徐东 李明 海鸥 郑威
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溶胶-凝胶 疏水 折射率 改性
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 224-227
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3463字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2017.02.011

摘要

为了制备低折射率疏水SiO2薄膜,将正硅酸乙酯(TEOS)和二甲基二乙氧基硅烷(DDS)在碱性条件下共水解缩聚,再以六甲基二氮硅烷(HMDS)做进一步的改性,采用提拉浸渍工艺在玻璃基底上制备单层增透膜.通过对溶胶粘度随老化时间的变化规律及HMDS添加对薄膜接触角影响等的分析与研究,制备了接触角最大的低折射率薄膜;同时对薄膜的红外特性、透过率、折射率进行了表征.结果表明:TEOS和DDS共水解缩聚提高了膜层疏水性,经HMDS改性后,薄膜的接触角为149°,折射率为1.12.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜洪义	武汉理工大学材料科学与工程学院	55	1069	18.0	31.0
2	李明	武汉理工大学材料科学与工程学院	47	246	9.0	14.0
3	郑威	武汉理工大学材料科学与工程学院	3	12	1.0	3.0
4	海鸥	武汉理工大学材料科学与工程学院	4	9	2.0	3.0
5	徐东	武汉理工大学材料科学与工程学院	8	9	1.0	3.0