聚氨酯抛光垫机械抛光钆镓石榴石晶片

• 作者: 张浩然 王紫光 金洙吉 韩晓龙
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钆镓石榴石(GGG)晶体 平面度 划痕 抛光垫
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: TG58
• 字数: 3428字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0006

摘要

钆镓石榴石(gadolinium gallium garnet,GGG)晶片是一种性能优良的激光材料,但其在抛光后易产生划痕、效率低.为保证GGG晶片的平面度、提高抛光效率,同时控制划痕现象,使用聚氨酯抛光垫进行机械抛光,研究抛光压力、抛光盘转速对平面度和表面粗糙度的影响.研究表明:使用聚氨酯抛光垫可以有效避免加工过程中产生划痕.在载荷127 g/cm2,转速70 r/min的条件下,抛光30 min后的平面度可达到226 nm,表面粗糙度RMS可达到36.3 nm;表面缺陷较小,可被后续化学机械抛光很快去除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金洙吉	大连理工大学机械工程学院	105	1334	18.0	32.0
2	张浩然	大连理工大学机械工程学院	1	4	1.0	1.0
3	王紫光	大连理工大学机械工程学院	9	59	6.0	7.0
4	韩晓龙	大连理工大学机械工程学院	3	6	2.0	2.0