激光的强化因子和入射距离对铜薄膜能量衰减影响分析

• 作者: 王慧敏
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 激光冲击 铜薄膜 能量衰减 数学模型 分析
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 光通信与网络
• 页码范围: 190-193
• 页数: 4页
• 分类号: TN29
• 语种: 中文
• DOI: 10.14016/j.cnki.jgzz.2017.06.190

摘要

微机械电子系统中的铜薄膜分布很广,为了改进微机械电子系统的构件性能、延长使用寿命,提出一种激光冲击铜薄膜的能量衰减数学模型分析新方法.所提方法通过改进Kanai模型给出激光冲击铜薄膜的能量衰减数学模型,使用两步回归处理方法确定模型回归系数,保证模型回归精度.在模型的基础上,以激光入射周期为横坐标、多种类构件面积归一化结果为纵坐标,绘制铜薄膜吸收能量衰减和铜薄膜滞回能量衰减影响曲线图,根据曲线分析出构件面积、激光强化因子和激光入射距离对铜薄膜能量衰减的影响规律.实验结果说明,所提新方法的模型回归精度高,分析结果更加可靠.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王慧敏	黄淮学院数学与统计学院	10	10	2.0	3.0