等离子体刻蚀前处理对碳基薄膜结合力的影响

• 作者: 李振东 汪瑞军 王亦奇 王伟平 詹华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子刻蚀 阳极层离子源 M50轴承钢 钨掺杂类金刚石薄膜 离子源功率
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 64-68
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2559字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.011

摘要

目的 通过等离子刻蚀处理使基体表面更洁净,从而提高薄膜与基体的结合力.方法 采用阳极层离子源,通过不同的离子源功率和处理时间对M50轴承钢样品进行处理,并在处理过的样品表面制备钨掺杂类金刚石薄膜.利用原子力显微镜对等离子刻蚀处理前后的样品表面形貌进行研究,利用Raman光谱分析薄膜的微观结构,利用划痕仪对薄膜与基体的结合力进行研究.结果 不同的离子源功率和刻蚀时间,得到了不同的基体微观表面粗糙度;钨掺杂类金钢石薄膜的D峰和G峰分别在1350 cm?1附近和1580 cm?1附近,为典型的类金刚石结构,ID/IG值在1.5左右;未经等离子刻蚀前处理样品的膜/基结合力是23 N;而优化等离子刻蚀前处理参数样品的膜/基结合力高达69 N,最佳的离子源功率和刻蚀时间为2 kW、60 min.结论 等离子刻蚀前处理能够有效提高薄膜与基体的结合力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王伟平		23	78	6.0	7.0
3	汪瑞军		28	98	6.0	7.0
7	詹华		12	43	4.0	6.0
8	李振东		13	118	6.0	10.0
9	王亦奇		4	18	2.0	4.0