熔石英元件HF刻蚀的实验研究

• 作者: 张培月 张磊 王景贺 程健
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 熔石英 化学刻蚀 亚表层缺陷 激光诱导损伤
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 4-10
• 页数: 7页
• 分类号: TN244
• 字数: 5212字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201729.170129

摘要

为深入了解熔石英元件化学刻蚀过程,研究了HF刻蚀反应机理、HF刻蚀工艺参数以及刻蚀对表面质量的影响规律.通过控制变量法,获得刻蚀速率随HF浓度、刻蚀温度以及NH4F浓度的变化规律.对刻蚀不同深度后的元件表面粗糙度、形貌、杂质含量以及激光损伤阈值进行了检测,实验结果表明:刻蚀速率受多种因素共同影响,其中HF浓度的促进作用最为显著;刻蚀后的熔石英表面形貌复杂,有横向、纵向、拖尾等形式的划痕,以及坑点、杂质等缺陷,其中横向划痕和纵向划痕占据了缺陷部分的主体,主要杂质铈元素随刻蚀时间的增长不断减少;激光损伤阈值测量实验表明,通过HF刻蚀将元件损伤阈值提高了59.6%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张磊	哈尔滨工业大学机电工程学院	159	1265	17.0	29.0
2	王景贺	哈尔滨工业大学机电工程学院	33	381	12.0	19.0
3	程健	哈尔滨工业大学机电工程学院	9	13	2.0	3.0
4	张培月	哈尔滨工业大学机电工程学院	2	4	1.0	2.0