提升熔石英抗激光损伤性能的磁流变与HF刻蚀结合方法

• 作者: 万稳 彭小强 戴一帆 石峰
• 来源期刊: 国防科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 熔石英 磁流变抛光 HF酸刻蚀 缺陷 损伤密度
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 专题:精密工程
• 页码范围: 8-11
• 页数: 4页
• 分类号: TJ580.692
• 字数: 3753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11887/j.cn.201506002

摘要

为提升紫外熔石英元件抗激光损伤性能，针对传统加工方法在加工过程中产生的破碎性缺陷和污染性缺陷，提出使用磁流变抛光结合HF酸刻蚀的组合工艺提升紫外熔石英元件抗激光损伤性能的方法。磁流变抛光特有的剪切去除原理能够有效去除传统加工过程产生的破碎性缺陷，同时不产生新的破碎性缺陷。HF酸动态酸刻蚀能够有效减少加工过程中产生的金属元素污染。实验结果表明：经过组合工艺处理的熔石英样品，在7J／cm2·3ω激光通量辐照下损伤密度由0.2mm－2降至0.008mm－2，在8J／cm2·3ω激光通量辐照下损伤密度由1 mm－2降至0.1 mm－2，其元件抗损伤性能提升显著。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院	109	1657	23.0	33.0
3	石峰	国防科技大学机电工程与自动化学院	33	320	12.0	16.0
5	彭小强	国防科技大学机电工程与自动化学院	34	661	15.0	25.0
13	万稳	国防科技大学机电工程与自动化学院	2	14	2.0	2.0