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非接触式配向工艺(光配向工艺)Zara Particle不良产生机理分析及改善方向研究
非接触式配向工艺(光配向工艺)Zara Particle不良产生机理分析及改善方向研究
作者:
刘俊豪
张龙
江桥
陈维诚
陈霖东
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
非接触式配向
光配向
ZaraParticle
摘要:
目前在TFT-LCD生产中最为广泛运用的配向技术是摩擦配向(Rubbing alignment)法.光配向工艺以非接触式配向正在逐渐取代现有的摩擦配向方式,其配向原理及材料与摩擦配向方式有着本质区别.光配向使用PI Ink需要在Coating固化以后再次进行断链和重组,并且需要将断开分子链进行去除.由于其分解特性及断开分子链的去除效果、固化后膜层与CF侧PS间摩擦挤压都与盒内产生Zara相关,随着行业内对产品品质需求的提高,客户对Zara不良的容忍度也在一度降低.通过对Oven条件(断链分子的去除)和Polish条件(PS对PI膜层摩擦挤压)进行测试,找出最佳断链去除条件以及摩擦挤压条件,为后续光配向量产寻找可靠条件,降低Zara发生率.
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文献信息
篇名
非接触式配向工艺(光配向工艺)Zara Particle不良产生机理分析及改善方向研究
来源期刊
电子世界
学科
关键词
非接触式配向
光配向
ZaraParticle
年,卷(期)
2017,(11)
所属期刊栏目
技术交流
研究方向
页码范围
117-119
页数
3页
分类号
字数
3255字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈维诚
6
9
2.0
2.0
2
张龙
2
3
1.0
1.0
3
江桥
6
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2.0
2.0
4
陈霖东
3
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刘俊豪
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研究主题发展历程
节点文献
非接触式配向
光配向
ZaraParticle
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子世界
主办单位:
中国电子学会
出版周期:
半月刊
ISSN:
1003-0522
CN:
11-2086/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
2-892
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
36164
总下载数(次)
96
总被引数(次)
46655
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