尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响

• 作者: 崔学良 李建素 祝锡晶 魏慧芬 黎相孟
• 来源期刊: 河北科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体动力学 干法刻蚀 硅纳米锥阵列 亚波长结构 减反射
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 国家青年/地区科学基金项目专栏
• 页码范围: 487-493
• 页数: 7页
• 分类号: TB133
• 字数: 4568字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7535/hbkd.2018yx06002

摘要

为了探讨不同尺度和形貌的硅纳米锥阵列结构表面的光学特性,采用基于纳米粒子自组装薄膜掩蔽的亚微米干法刻蚀工艺,在硅基材表面制备了纳米锥阵列结构,并对纳米锥阵列结构进行了形貌表征及光学测试.结果表明,采用 SF6和 C4F8混合气体,其体积流量分别为 1 2 sccm 和27 sccm,功率 750 W,偏压25 V时,可以获得光学减反射性能优异的纳米锥阵列结构.通过调节刻蚀时长获得形貌相似而尺寸不同的硅纳米锥阵列结构.200 nm和400 nm周期硅纳米锥阵列结构表面具有2%～3%的反射率,而800 nm周期硅纳米锥阵列结构表面则接近于硅基材背面的反射率并高于 10%,说明亚波长结构的减反射特性更加显著.从实验上揭示了尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响规律,为进一步研究光学器件方面的应用提供了参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祝锡晶	中北大学先进制造技术山西省重点实验室	137	499	10.0	15.0
2	崔学良	中北大学先进制造技术山西省重点实验室	12	25	3.0	5.0
3	黎相孟	中北大学先进制造技术山西省重点实验室	14	5	2.0	2.0
4	魏慧芬	中北大学仪器与电子学院	5	0	0.0	0.0
5	李建素	中北大学先进制造技术山西省重点实验室	8	4	1.0	1.0